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可再激活受激發(fā)射損耗顯微術(shù)(ReSTED)的特性與應(yīng)用

瀏覽次數(shù):202 發(fā)布日期:2025-7-31  來源:本站 僅供參考,謝絕轉(zhuǎn)載,否則責(zé)任自負(fù)
本文介紹了一項(xiàng)突破性的顯微成像技術(shù)——可再激活受激發(fā)射損耗顯微術(shù)(Reactivatable STED,ReSTED)。該技術(shù)利用納米石墨烯(Dibenzo[hi,st]ovalene, DBOV-Mes)獨(dú)特的熒光恢復(fù)特性,成功解決了傳統(tǒng)STED技術(shù)中長期存在的分辨率與成像時(shí)間不可兼得的矛盾。傳統(tǒng)STED依賴高強(qiáng)度耗盡激光提升分辨率,但會(huì)導(dǎo)致熒光分子光漂白,限制長期成像能力。而DBOV-Mes在激發(fā)光下進(jìn)入“熒光關(guān)閉”狀態(tài)(通過雙光子電離形成自由基陽離子),卻可被同波長耗盡光(775nm)重新激活至“熒光開啟”狀態(tài)(單光子誘導(dǎo)電荷重組)。這一特性使得ReSTED在無需抗淬滅劑的條件下,實(shí)現(xiàn)了長達(dá)數(shù)小時(shí)的高分辨率三維成像。

本研究成果由Qiqi Yang、Akimitsu Narita、Mischa Bonn、Xiaomin Liu等20位學(xué)者合作完成,論文題為《Reactivatable stimulated emission depletion microscopy using fluorescence-recoverable nanographene》,于2025年2月在線發(fā)表于《Nature Communications》期刊。

重要發(fā)現(xiàn)
01納米石墨烯的光物理特性革新STED原理
傳統(tǒng)STED技術(shù)的瓶頸在于:
光漂白限制:高強(qiáng)度耗盡光(通常775 nm)永久破壞熒光分子,導(dǎo)致分辨率提升以犧牲成像時(shí)間為代價(jià)。
環(huán)境依賴:抗淬滅劑的使用限制生物應(yīng)用場景。
DBOV-Mes的引入顛覆了這一局限:
熒光可逆切換機(jī)制
關(guān)閉狀態(tài):561 nm激發(fā)光引發(fā)雙光子電離,DBOV-Mes釋放電子形成非熒光的自由基陽離子(DBOV-Mes⁺)。
開啟狀態(tài):775 nm耗盡光被DBOV-Mes⁺吸收,觸發(fā)單光子誘導(dǎo)的電子重組,恢復(fù)熒光。

高穩(wěn)定性:連續(xù)7次“開-關(guān)”循環(huán)后熒光強(qiáng)度無衰減,而傳統(tǒng)熒光分子損失超30%。

02ReSTED成像性能驗(yàn)證
實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì):分辨率提升:DBOV-Mes嵌入聚苯乙烯薄膜后,STED成像分辨率達(dá)73nm(共聚焦為119nm),揭示亞微米結(jié)構(gòu)。

長時(shí)程3D成像:對(duì)玻璃基底裂紋進(jìn)行1小時(shí)三維掃描(層厚0.15μm),熒光保留率超70%,總成像時(shí)間73分鐘。

生物應(yīng)用
標(biāo)記脂質(zhì)體藥物載體:
新鮮脂質(zhì)體(直徑20-100nm)實(shí)現(xiàn)184nm分辨率3D成像。
儲(chǔ)存1年的脂質(zhì)體發(fā)生形變(囊泡融合),STED清晰分辨簇狀大囊泡。

03環(huán)境兼容性突破
DBOV-Mes在空氣與PBS緩沖液中熒光恢復(fù)率達(dá)100%,而水中僅部分恢復(fù)(電子被水分子捕獲)。這一特性使其成為首個(gè)無需抗淬滅劑的高分辨成像探針。

創(chuàng)新與亮點(diǎn)
01突破性技術(shù)將“耗竭光”轉(zhuǎn)化為“再生工具”
傳統(tǒng)STED的耗盡光必然導(dǎo)致熒光損失,而ReSTED創(chuàng)新性地利用同一束775nm光同時(shí)實(shí)現(xiàn)兩種功能:
上坡路:對(duì)掃描區(qū)域進(jìn)行熒光耗竭(提升分辨率)。
下坡路:對(duì)鄰近區(qū)域進(jìn)行熒光激活(延長壽命)。

這種“邊破壞邊修復(fù)”的循環(huán)機(jī)制,使分辨率和成像時(shí)間從“二選一”變?yōu)?ldquo;全都要”。

02應(yīng)用價(jià)值:推開活細(xì)胞長時(shí)程成像大門
藥物研發(fā):首次實(shí)現(xiàn)脂質(zhì)體載體在近生理環(huán)境(PBS)下的長期超分辨監(jiān)控,為藥物釋放機(jī)制研究提供工具。

材料科學(xué):納米級(jí)玻璃裂紋的3D演化觀測,助力材料失效分析。

成本優(yōu)勢:擺脫商業(yè)抗淬滅劑依賴,降低成像成本90%以上。

03從實(shí)驗(yàn)室到臨床的潛力
核心技術(shù)已申請國際專利,覆蓋探針設(shè)計(jì)(DBOV-Mes衍生物)與成像系統(tǒng)。水溶性納米石墨烯的同步開發(fā),將加速其在臨床診斷中的應(yīng)用。

總結(jié)與展望ReSTED技術(shù)通過納米石墨烯DBOV-Mes的光物理特性重塑了STED顯微原理,解決了光漂白這一40年未解的難題。

其核心價(jià)值在于:
無需抗淬滅劑實(shí)現(xiàn)小時(shí)級(jí)3D成像
兼容生物環(huán)境;
分辨率突破至73nm。

當(dāng)前限制主要在于水環(huán)境中的不完全恢復(fù)(電子被水捕獲),未來可通過開發(fā)水溶性納米石墨烯(如已報(bào)道的氮摻雜DBOV)或優(yōu)化激光參數(shù)(連續(xù)光替代脈沖光)進(jìn)一步突破。隨著多色納米石墨烯(覆蓋可見-近紅外光譜)的發(fā)展,ReSTED有望成為活細(xì)胞超分辨成像的通用平臺(tái),推動(dòng)癌癥動(dòng)態(tài)追蹤、神經(jīng)突觸傳輸?shù)惹把匮芯俊?/span>

論文信息
聲明:本文僅用作學(xué)術(shù)目的。
Yang Q, Failla AV, Turunen P, Mateos-Maroto A, Gai M, Zuschratter W, Westendorf S, Gelléri M, Chen Q, Goudappagouda, Zhao H, Zhu X, Morsbach S, Scheele M, Yan W, Landfester K, Kabe R, Bonn M, Narita A, Liu X. Reactivatable stimulated emission depletion microscopy using fluorescence-recoverable nanographene. Nat Commun. 2025 Feb 4;16(1):1341.

DOI:10.1038/s41467-025-56401-z.

發(fā)布者:羅輯技術(shù)(武漢)有限公司
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標(biāo)簽: 顯微成像 ReSTED
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