技術(shù)類(lèi)別 | 表型與生理過(guò)程 | 病害研究用途 | 常用參數(shù)指標(biāo) |
葉綠素?zé)晒獬上窦夹g(shù) | 植物光合能力、光合電子傳遞鏈、光系統(tǒng)熱耗散等光合生理過(guò)程 | 評(píng)估病害對(duì)光合系統(tǒng)損傷程度與機(jī)制;由于光系統(tǒng)對(duì)脅迫的敏感性,是病害早期預(yù)警的最靈敏且最常用技術(shù)之一 | 最大光化學(xué)效率Fv/Fm、實(shí)際光化學(xué)效率QY、非光化學(xué)淬滅系數(shù)NPQ、熒光衰減率“活力指數(shù)”Rfd等 |
UV-MCF紫外激發(fā)多光譜熒光成像技術(shù) | 植物在病斑及周邊區(qū)域合成大量黃酮、多酚類(lèi)次生代謝物,以防御病害的擴(kuò)散 | 通過(guò)測(cè)量次生代謝物熒光,評(píng)估病害的發(fā)生程度與植物防御機(jī)制的激活 | 次生代謝物熒光F440、F520;葉綠素?zé)晒釬690、F740 |
形態(tài)成像分析技術(shù) | 株高、株寬、葉面積、生物量、生長(zhǎng)動(dòng)態(tài)、色彩變化等形態(tài)的影響 | 評(píng)估不同條件下對(duì)植物形態(tài)的影響乃至增產(chǎn)效應(yīng) | 株高、葉面積及病斑面積、數(shù)字生物量等 |
多/高光譜(反射光譜)成像分析技術(shù) | 通過(guò)反射光譜的變化定量反映植物活力、色素組成、光合作用、生化組成、氮素營(yíng)養(yǎng)、水分含量等表型生理,對(duì)病害的影響進(jìn)行間接測(cè)量。 | 病害對(duì)從健康程度、色素組成、營(yíng)養(yǎng)狀況等方面的影響,同時(shí)也配合葉綠素?zé)晒獬上窦夹g(shù)對(duì)病害抗性進(jìn)行進(jìn)一步驗(yàn)證。 | 歸一化植被指數(shù)NDVI、光化學(xué)反射指數(shù)PRI、花青素反射指數(shù)ARI、胡蘿卜素反射指數(shù)CRI等 |
紅外熱成像技術(shù) | 獲得植物表面溫度分布圖及溫度數(shù)據(jù) | 通過(guò)葉片溫度反映由于病害導(dǎo)致的葉片氣孔導(dǎo)度變化、代謝紊亂等 | 平均溫度、溫度范圍、水脅迫指數(shù)I |
植被指數(shù) | 公式 | 相關(guān)性 |
反射比RR | R550/R675 | 稻瘟病 |
反射比RR | R570/R675 | 稻瘟病 |
反射比RR | R675/R700 | 葉綠素a |
反射比RR | R672/R550 | 葉綠素b |
反射比RR | R750/R550 | 總?cè)~綠素 |
結(jié)構(gòu)反射指數(shù)SRI | R750/R700 | 總?cè)~綠素 |
歸一化植被指數(shù)NDVI | (R755+R664)/(R755-R664) | 總?cè)~綠素 |
反射比RR | (R780-R710)/(R780-R680) | 總?cè)~綠素 |
歸一化光譜指數(shù)NDSI | (R550-R410)/(R550+R410) | 葉綠素b |
光化學(xué)反射指數(shù)PRI | (R531-R570)/(R531+R570) | 光合作用 |
類(lèi)胡蘿卜素反射指數(shù)CRI700 | 1/R510-1/R700 | 總類(lèi)胡蘿卜素 |